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微米級(jí)非厄米光開(kāi)關(guān):皮秒級(jí)光信號(hào)切換技術(shù)解析

2025-07-07



賓夕法尼亞大學(xué)工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院研究團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)的基于非厄米物理的新型光子開(kāi)關(guān),代表了光開(kāi)關(guān)技術(shù)的革命性突破。這款微米級(jí)光開(kāi)關(guān)單元尺寸僅為85×85 μm,卻能在萬(wàn)億分之一秒(100皮秒)內(nèi)實(shí)現(xiàn)光信號(hào)的重新定向,同時(shí)保持了低功耗特性。這一技術(shù)突破不僅解決了傳統(tǒng)光開(kāi)關(guān)在速度和尺寸上的局限性,更為數(shù)據(jù)中心、光通信系統(tǒng)和人工智能訓(xùn)練等領(lǐng)域的光互連技術(shù)提供了全新可能。通過(guò)結(jié)合硅基材料的高集成度與InGaAsP增益層的特殊光學(xué)特性,該光開(kāi)關(guān)利用非厄米系統(tǒng)的”特殊點(diǎn)”(Exceptional Point)原理,實(shí)現(xiàn)了對(duì)光信號(hào)的精準(zhǔn)、快速控制,為未來(lái)光子計(jì)算和超高速網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)奠定了基礎(chǔ)。



一、非厄米光開(kāi)關(guān)的物理原理與技術(shù)實(shí)現(xiàn)

非厄米光開(kāi)關(guān)的核心創(chuàng)新在于其基于量子力學(xué)前沿分支——非厄米物理學(xué)的特殊點(diǎn)調(diào)控機(jī)制。該光開(kāi)關(guān)采用混合材料結(jié)構(gòu),底層為硅層負(fù)責(zé)光子傳輸,頂部為InGaAsP層提供光學(xué)增益。這種硅基與InGaAsP的異質(zhì)集成設(shè)計(jì),解決了硅材料發(fā)光效率低的固有缺陷,同時(shí)利用硅的高折射率特性實(shí)現(xiàn)光信號(hào)的高效捕獲和控制。


特殊點(diǎn)(EP)是該光開(kāi)關(guān)實(shí)現(xiàn)皮秒級(jí)超快切換的關(guān)鍵。在非厄米系統(tǒng)中,特殊點(diǎn)是指兩個(gè)或多個(gè)本征值和相關(guān)本征矢量同時(shí)合并的參數(shù)空間奇點(diǎn)。當(dāng)系統(tǒng)工作點(diǎn)接近特殊點(diǎn)時(shí),微小的參數(shù)擾動(dòng)會(huì)引發(fā)顯著的模式躍遷,從而實(shí)現(xiàn)極快速度的光路切換。賓夕法尼亞大學(xué)團(tuán)隊(duì)通過(guò)精確調(diào)節(jié)InGaAsP層的光增益水平,控制垂直耦合波導(dǎo)在特殊點(diǎn)附近的工作狀態(tài),使光信號(hào)能夠在不同輸入和輸出端口間實(shí)現(xiàn)100皮秒級(jí)的動(dòng)態(tài)切換。


該光開(kāi)關(guān)的制造工藝面臨的主要挑戰(zhàn)是硅層與InGaAsP層的納米級(jí)精確對(duì)齊。研究團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人梁峰教授形象地比喻:“這就像制作一份精致的三明治,任何一層如果稍有偏差,都會(huì)讓整個(gè)三明治無(wú)法食用?!蓖ㄟ^(guò)多次試驗(yàn)和精密工藝優(yōu)化,團(tuán)隊(duì)成功實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)的精確對(duì)齊,確保了光信號(hào)在垂直耦合波導(dǎo)中的高效傳輸和精準(zhǔn)控制。



二、超高速光開(kāi)關(guān)的性能指標(biāo)與應(yīng)用潛力


賓夕法尼亞大學(xué)光開(kāi)關(guān)的性能指標(biāo)代表了當(dāng)前光開(kāi)關(guān)技術(shù)的最高水平。其核心優(yōu)勢(shì)在于突破性的速度和微型化設(shè)計(jì),具體表現(xiàn)為:

性能指標(biāo)

賓夕法尼亞大學(xué)非厄米光開(kāi)關(guān)

傳統(tǒng)MEMS光開(kāi)關(guān)

傳統(tǒng)熱光光開(kāi)關(guān)

切換速度

100皮秒 (100 ps)

15毫秒 (15 ms)

10微秒 (10 μs)~1毫秒 (1 ms)

單元尺寸

85×85 μm

毫米級(jí)

毫米級(jí)

功耗

低能耗(具體數(shù)值未公開(kāi))

靜態(tài)功耗微瓦級(jí)

需持續(xù)加熱,功耗較高

插入損耗

<1 dB(推測(cè))

<0.8 dB

3~4 dB

隔離度

>45 dB(推測(cè))

>45 dB

20~35 dB






這些性能指標(biāo)使非厄米光開(kāi)關(guān)在多個(gè)應(yīng)用場(chǎng)景中展現(xiàn)出巨大潛力。在光通信領(lǐng)域,該技術(shù)可實(shí)現(xiàn)超低延遲的光信號(hào)路由,特別適合需要處理海量數(shù)據(jù)的AI訓(xùn)練集群和數(shù)據(jù)中心。谷歌TPU v4的案例表明,使用可重配置光互連可以將系統(tǒng)規(guī)模從每臺(tái)超算中1024片提升到4096片,性能提升達(dá)2.1-3.5倍,同時(shí)功耗僅增加約5%。非厄米光開(kāi)關(guān)的皮秒級(jí)切換速度,可將這一優(yōu)勢(shì)進(jìn)一步放大,為下一代AI基礎(chǔ)設(shè)施提供更高效的互聯(lián)解決方案。

在量子計(jì)算領(lǐng)域,該光開(kāi)關(guān)的超快切換特性可實(shí)現(xiàn)量子態(tài)的精確操控。量子計(jì)算對(duì)光信號(hào)的切換速度要求極高,傳統(tǒng)光開(kāi)關(guān)往往無(wú)法滿足需求。非厄米光開(kāi)關(guān)的皮秒級(jí)響應(yīng)時(shí)間,使其成為量子信息處理的理想選擇。此外,該技術(shù)還可應(yīng)用于圖像傳感器、自動(dòng)駕駛激光雷達(dá)等需要高速光信號(hào)處理的場(chǎng)景,通過(guò)降低功耗和提高響應(yīng)速度,推動(dòng)這些領(lǐng)域的技術(shù)革新。



三、與傳統(tǒng)光開(kāi)關(guān)技術(shù)的對(duì)比優(yōu)勢(shì)


與傳統(tǒng)光開(kāi)關(guān)技術(shù)相比,非厄米光開(kāi)關(guān)在多個(gè)關(guān)鍵維度上展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì)。首先,在速度方面,非厄米光開(kāi)關(guān)的100皮秒切換速度比MEMS光開(kāi)關(guān)快約150萬(wàn)倍,比熱光開(kāi)關(guān)快約10萬(wàn)倍。這種速度優(yōu)勢(shì)對(duì)于AI訓(xùn)練中的大規(guī)模并行計(jì)算至關(guān)重要,因?yàn)榈脱舆t能夠顯著提升訓(xùn)練效率。在谷歌TPU v4的案例中,使用OCS的集群相比理想胖樹(shù)架構(gòu)集群,在處理10,000個(gè)作業(yè)時(shí),系統(tǒng)利用率差異控制在1%以內(nèi),這充分展示了超高速光互連在提高系統(tǒng)效率方面的價(jià)值。


在尺寸方面,非厄米光開(kāi)關(guān)的85×85 μm單元尺寸比傳統(tǒng)MEMS光開(kāi)關(guān)小兩個(gè)數(shù)量級(jí),更適合高密度集成。隨著數(shù)據(jù)中心規(guī)模向萬(wàn)卡級(jí)別擴(kuò)展,光交換技術(shù)的集成度直接影響系統(tǒng)的可擴(kuò)展性和能效。傳統(tǒng)MEMS光開(kāi)關(guān)雖然在中小矩陣OCS中已廣泛應(yīng)用,但其毫米級(jí)尺寸限制了大規(guī)模集成的可能性。而非厄米光開(kāi)關(guān)的微型化設(shè)計(jì),可輕松實(shí)現(xiàn)數(shù)千甚至數(shù)萬(wàn)端口的集成,為構(gòu)建超大規(guī)模光互聯(lián)網(wǎng)絡(luò)提供了物理基礎(chǔ)。


在功耗方面,非厄米光開(kāi)關(guān)的低能耗特性使其在長(zhǎng)期運(yùn)行中更具優(yōu)勢(shì)。傳統(tǒng)MEMS光開(kāi)關(guān)需要維持微鏡偏轉(zhuǎn)狀態(tài),產(chǎn)生一定的靜態(tài)功耗;熱光開(kāi)關(guān)則需要持續(xù)加熱以保持工作狀態(tài),功耗更高。而非厄米光開(kāi)關(guān)采用非機(jī)械結(jié)構(gòu),無(wú)需持續(xù)供電維持狀態(tài),動(dòng)態(tài)功耗也低于傳統(tǒng)方案,這使其在能源效率日益重要的數(shù)據(jù)中心環(huán)境中具有顯著優(yōu)勢(shì)。


在可靠性方面,非厄米光開(kāi)關(guān)無(wú)機(jī)械部件磨損,長(zhǎng)期穩(wěn)定性更高。MEMS光開(kāi)關(guān)的微鏡在頻繁切換過(guò)程中可能因機(jī)械疲勞而失效,而熱光開(kāi)關(guān)則面臨熱漂移和溫度控制的挑戰(zhàn)。非厄米光開(kāi)關(guān)通過(guò)純光學(xué)調(diào)控實(shí)現(xiàn)功能,避免了機(jī)械疲勞問(wèn)題,同時(shí)其增益層設(shè)計(jì)也減少了對(duì)溫度的敏感性,提高了系統(tǒng)的長(zhǎng)期可靠性。




四、在光通信與數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域的商業(yè)化前景

非厄米光開(kāi)關(guān)的商業(yè)化潛力主要體現(xiàn)在AI數(shù)據(jù)中心和光通信網(wǎng)絡(luò)的升級(jí)需求上。隨著AI訓(xùn)練集群規(guī)模從千卡向萬(wàn)卡乃至更大規(guī)模擴(kuò)展,傳統(tǒng)電交換網(wǎng)絡(luò)面臨功耗、延遲和拓?fù)潇`活性的瓶頸。市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)Cignal AI預(yù)測(cè),到2028年,光路交換機(jī)(OCS)市場(chǎng)規(guī)模將突破10億美元,這一增長(zhǎng)將主要由AI和云網(wǎng)絡(luò)的進(jìn)步驅(qū)動(dòng)。


在技術(shù)適配性方面,非厄米光開(kāi)關(guān)的皮秒級(jí)速度和微型化設(shè)計(jì)可直接適配數(shù)據(jù)中心葉脊架構(gòu)的低延遲、高密度需求。臺(tái)積電等代工廠的硅光子工藝進(jìn)展為該技術(shù)的量產(chǎn)提供了基礎(chǔ)。雖然賓夕法尼亞大學(xué)光開(kāi)關(guān)的插入損耗和隔離度等具體參數(shù)尚未公開(kāi),但基于其技術(shù)原理,預(yù)計(jì)可達(dá)到與傳統(tǒng)硅基光開(kāi)關(guān)相當(dāng)?shù)乃健?/span>


在競(jìng)爭(zhēng)格局方面,非厄米光開(kāi)關(guān)與Lumentum的MEMS光開(kāi)關(guān)、DirectLight的DBS技術(shù)形成差異化競(jìng)爭(zhēng)。Lumentum的MEMS方案在中小矩陣OCS中已廣泛應(yīng)用,但隨著AI集群規(guī)模向萬(wàn)卡級(jí)別擴(kuò)展,其速度和尺寸限制逐漸顯現(xiàn)。DirectLight的DBS技術(shù)在大規(guī)模端口擴(kuò)展中表現(xiàn)出優(yōu)異的可靠性和穩(wěn)定性,但功耗和延遲仍高于非厄米光開(kāi)關(guān)。而非厄米光開(kāi)關(guān)的皮秒級(jí)速度和微型化設(shè)計(jì),使其在AI訓(xùn)練等對(duì)延遲極度敏感的場(chǎng)景中具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。


在產(chǎn)業(yè)鏈成熟度方面,硅基光子技術(shù)已進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段。根據(jù)Yole數(shù)據(jù),2022年硅基光電子芯片規(guī)模約6800萬(wàn)美元,預(yù)計(jì)2028年將達(dá)到6億美元以上,年化復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)44%。臺(tái)積電已推出12.8 Tbps的COUPE技術(shù),并計(jì)劃在2025年下半年全面上市其硅光CPO交換機(jī)。這些進(jìn)展表明,硅基光子產(chǎn)業(yè)鏈已具備一定成熟度,為非厄米光開(kāi)關(guān)的商業(yè)化提供了支持。




五、技術(shù)挑戰(zhàn)與未來(lái)發(fā)展方向

盡管非厄米光開(kāi)關(guān)展現(xiàn)出巨大潛力,但其商業(yè)化仍面臨多項(xiàng)技術(shù)挑戰(zhàn)。首先是工藝復(fù)雜度問(wèn)題,硅與InGaAsP的異質(zhì)集成需要納米級(jí)精度,這對(duì)量產(chǎn)提出了極高要求。傳統(tǒng)硅基光開(kāi)關(guān)的制造工藝已相對(duì)成熟,而非厄米光開(kāi)關(guān)的特殊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需要進(jìn)一步優(yōu)化制造流程,提高良率。


其次是長(zhǎng)期穩(wěn)定性問(wèn)題。非厄米光開(kāi)關(guān)依賴于增益層的精確調(diào)控,而增益層的性能可能會(huì)隨時(shí)間推移而衰減。需要通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證其在長(zhǎng)期運(yùn)行中的性能穩(wěn)定性,特別是在不同溫度和濕度條件下的表現(xiàn)。此外,特殊點(diǎn)的精確控制也面臨挑戰(zhàn),任何微小的工藝偏差都可能導(dǎo)致系統(tǒng)偏離理想工作點(diǎn),影響整體性能。


在標(biāo)準(zhǔn)化方面,非厄米光開(kāi)關(guān)尚未形成明確的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。OIF等標(biāo)準(zhǔn)化組織已推動(dòng)高速光模塊接口標(biāo)準(zhǔn)(如400ZR+),但非厄米光開(kāi)關(guān)的特殊工作原理和性能指標(biāo)需要新的標(biāo)準(zhǔn)框架。這可能導(dǎo)致其在早期商業(yè)化階段面臨兼容性問(wèn)題,影響市場(chǎng)接受度。


未來(lái)發(fā)展方向主要集中在三個(gè)方面:一是提高集成度,通過(guò)優(yōu)化工藝實(shí)現(xiàn)更大規(guī)模的光開(kāi)關(guān)陣列集成,滿足AI數(shù)據(jù)中心的擴(kuò)展需求;二是降低功耗,進(jìn)一步優(yōu)化增益層設(shè)計(jì)和控制電路,實(shí)現(xiàn)更低的動(dòng)態(tài)功耗;三是增強(qiáng)環(huán)境適應(yīng)性,通過(guò)封裝技術(shù)和溫度控制方案,提高系統(tǒng)在不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定性和可靠性。


此外,非厄米光開(kāi)關(guān)還可以與硅光CPO技術(shù)深度融合,形成更高效的光互連解決方案。CPO技術(shù)通過(guò)將光模塊與交換芯片共同封裝,可顯著降低延遲和功耗。非厄米光開(kāi)關(guān)的超高速特性與CPO技術(shù)的低延遲優(yōu)勢(shì)相結(jié)合,有望為AI基礎(chǔ)設(shè)施提供更高效的互聯(lián)解決方案。



賓夕法尼亞大學(xué)開(kāi)發(fā)的微米級(jí)非厄米光開(kāi)關(guān)代表了光開(kāi)關(guān)技術(shù)的重要突破,其皮秒級(jí)切換速度和微型化設(shè)計(jì)為光互連技術(shù)開(kāi)辟了新方向。該技術(shù)通過(guò)特殊點(diǎn)調(diào)控機(jī)制,實(shí)現(xiàn)了對(duì)光信號(hào)的精準(zhǔn)、快速控制,為AI數(shù)據(jù)中心、量子計(jì)算和光通信等領(lǐng)域提供了全新可能。

在商業(yè)化潛力方面,非厄米光開(kāi)關(guān)憑借其速度、尺寸和功耗優(yōu)勢(shì),有望在高端AI基礎(chǔ)設(shè)施市場(chǎng)占據(jù)重要份額。隨著硅基光子產(chǎn)業(yè)鏈的成熟和云服務(wù)商對(duì)光互連技術(shù)的重視,該技術(shù)有望在未來(lái)3-5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用。

然而,非厄米光開(kāi)關(guān)仍面臨工藝復(fù)雜度、長(zhǎng)期穩(wěn)定性和標(biāo)準(zhǔn)化等挑戰(zhàn),需要研究團(tuán)隊(duì)和產(chǎn)業(yè)鏈各方共同努力解決。未來(lái),隨著技術(shù)的進(jìn)一步成熟和成本的降低,非厄米光開(kāi)關(guān)有望成為下一代光互連技術(shù)的核心組件,推動(dòng)數(shù)據(jù)中心、光通信和AI計(jì)算等領(lǐng)域的技術(shù)革新。

從更長(zhǎng)遠(yuǎn)的角度看,非厄米光開(kāi)關(guān)不僅是一種新型光開(kāi)關(guān)技術(shù),更代表了非厄米物理學(xué)在實(shí)際應(yīng)用中的重要突破。這一領(lǐng)域的研究進(jìn)展可能會(huì)引發(fā)更多創(chuàng)新應(yīng)用,如新型光學(xué)傳感器、量子處理器和高速光計(jì)算單元等,為光子學(xué)和量子信息處理領(lǐng)域帶來(lái)更廣闊的發(fā)展前景。



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